Vmesne plasti med oksidi in silicijem so izrednega pomena, saj lahko oksidni materiali zagotavljajo različne funkcionalnosti polprevodniški industriji. V številnih primerih pa takšna integracija zahteva visokokvalitetno rast oksidov, ki je omejena z intenzivno reakcijo s substratom. V naši študiji smo preučili uporabo pulznega laserskega nanašanja (PLD) za pripravo puferske plasti z ½ monoplasti pokritosti s Sr, ki je bila do sedaj uspešno pripravljena le z uporabo epitaksije z molekularnim curkom. Z uporabo refleksijsko visoko energijsko elektronsko difrakcijo (RHEED) smo uspeli na atomskem nivoju kontrolirati spremembe površinske rekonstrukcije tekom PLD nanosa Sr. Naknadno smo na tako pripravljenih puferskih plasteh pripravili epitaksialno plast STO ter jo analizirali z uporabo različnih analitskih tehnik.
B.04 Vabljeno predavanje
COBISS.SI-ID: 28288295V povezavi s podjetjem Epcos TDK preučujemo pogoje za pulzno lasersko nanašanje piezoelektričnega PLZT na Cu folijah in monokristaliničnih substratih za aplikacije, ki so namenjene shranjevanju energije. PLZT je antiferoelektrični material in izkazuje povečano dielektrično konstanto pod električnim poljem. To lastnost preučujemo za najnovejše aplikacije v elektronski industriji.
F.17 Prenos obstoječih tehnologij, znanj, metod in postopkov v prakso