Plinski odvodnik je že dolgo poznana v svetu nizkonapetostnih omrežij kot zaščitni element za prehodne prenapetostne razelektritve kot je naprimer udar strele. Nezanesljivost statičnega vžigne napetosti plinskega odvodnika se je v preteklosti reševala z dodatkom radioaktivnega elementa v celici plinskega odvodnika, ki je stabiliziral vžig. Radioaktivni izotopi delujejo kot stabilen vir elektronov, ki prožijo vžig. V današnjih časih radioaktivni dodatki seveda niso okoljsko sprejemljivi in potrebno je iskati nove rešitve. V našem primeru je hladna emisija izvor proženja razelektritve, brez aktivacijskih elementov na kovinskih elektrodah. Patenti obravnavajo različne prožilne pomožne elektrode v obliki grafitnega nanosa. Grafit je nanesen med elektrodama na izolatorju. Kljub pogostosti uporabe takšne rešitve pa v literaturi ni natančno pojasnjeno delovanje teh črtic. Predstavljeni so rezultati, ki kažejo, da stabilna hladna emisija v visokem vakuumu izvira iz nanostrukturiranih robov grafitnega nanosa. To kaže dobro korelacijo med vžigno napetostjo plinskega odvodnika napolnjenega z mešanico čistih plinov.
COBISS.SI-ID: 25752615
To delo je bilo posvečeno raziskavam tako-imenovanega ''plasma-wall’’ problema v laboratorijskih, tehnološko usmerjenih in fuzijskih plazmah. Posebno pozornost je bila podana simulacijam učinkov prostorskih nabojev, ki lahko igrajo pomembno vlogo v sekundarni emisiji elektronov, zaradi močnega električnega polja se pojavlja v razelektritvah v plinski celici/cevi. Razvili smo majhno, a učinkovit PIC simulacijski program, da bi dobili več podatkov, kot to zdaj že možno pri drugih tovrstnih programih, ki so na voljo danes. Naredili smo primerjavo rezultatov našega programa z rezultati, pridobljenimi z drugimi metodami in paketi. Naša TC programska oprema temeljina brez-mrežni treecode (TC) metodi, čigave.prednosti in slabosti v aplikacijah na diodne plazme z zunanjo-kontrolirano oddajo gostote toka elektronov smo raziskali in predstavili.
COBISS.SI-ID: 12612379
Poznavanje interakcij vodikovih izotopov z volframom se je v zadnjih letih izkazalo za pomanjkljivo. Še posebej pa srečamo vrsto težav v fuzijskih plazmah. Ker je spekter problemov tukaj širok, z reševanjem problemov na tem področju, dobimo večino odgovorov pomembnih tudi za probleme ki jih imamo v laboratorijskih, tehnoloških in industrijskih plazmah. Težave so najbolj podobne tistim, ki jih srečamo v razelektritvah tipa Plazma Fokusa in plinskih odvodnikov, ki smo jih tukaj obravnavali v sklopu fizijske tematike, kjer smo s predhodno razvitimi metodami študirali dolgotrajno razplinjevanje in hkrati občasno izmerili permeacijo vodika skozi plasti volframa debeline 1 in 10 mikrometrov, nanesenimi za različnimi postopki. Hladen substrat iz specialnega jekla Eurofer je izjemno močno permeabilen, kar omogoča študij volframa, ki pa je celo v strukturi z velikimi kristalnimi zrni dosti manj prepusten za vodik kot pa je substrat. Posebej zanimive lastnosti ima volfram, nanesen z lasersko pulzno metodo (PLD) v helijevi razredčeni atmosferi. Volfram raste v pogojih, ki na tarči ne sprožajo izbruhov kapljic, dokaj počasi in tvori v plasti izjemno majhne kristalite premera nekaj nm. O interakciji vodika takih volframovih plasti ni najti literaturnih podatkov. Presenetilo nas je, da so poleg izjemno nizke permeabilnosti pri 400 °C, ki so imele vrednosti med P = 1.46x10-15 mol H2/(m s Pa0.5) in P = 4.8x10-15 mol H2/(m s Pa0.5), plasti izkazovale izjemno visoko koncentracijo vodika, reda 0.1 H/W, kljub dejstvu, da je topnost vodika v volframu med najnižjimi med vsemi kovinami. Razlago smo poiskali v novejših teoretičnih napovedih, kjer lahko vsaka volframova vrzel vsebuje celo 10 – 12 atomov vodika, ki tvori srednje močno kemijsko vez.
COBISS.SI-ID: 25978663