Študija opisuje razvoj tehnoloških postopkov za pripravo polprepustnih hologramskih zaščitnih folij. Možnosti za pripravo master originala, to je zapis uklonske strukture v svetlobno občutljiv polimer, obravnavamo z vodenim odklanjanjem laserskega žarka in s fotolitografijo (litografija z masko). Ustreznost vseh faz in uporabljenih tehnoloških postopkov merimo z uspešnostjo replikacije in vročega odtiskovanja.
F.09 Razvoj novega tehnološkega procesa oz. tehnologije
COBISS.SI-ID: 4917786Preverili smo možnost nedestruktivne identifikacije optično variabilnih zaščitnih elementov (OVD), ki se rabijo v zaščitnem tisku. Osnovna merilna metoda je uporaba prenosnega spektrogoniometra. Ker med OVD prevladujejo uklonske mrežice in iz njih izpeljane preproste strukture, je potrebno ugotoviti kako dobro jih lahko identificiramo z razpoložljivim številom največ 19 merskih geometrij. Ugotovili smo, da so take meritve OVD dovolj različne, da lahko služijo za njihovo identifikacijo. Smeri uklonov dajo usmerjenost OVD strukture. Iz spektrov odbojnosti je mogoče določiti tudi okvirne vrednosti geometrijskih parametrov uklonske strukture. Ker dajo spektrogoniometrične meritve veliko več podatkov kot še tako pozorno opazovanje, so potencialno uporabne za identifikacijo originalov od ponaredkov.
F.02 Pridobitev novih znanstvenih spoznanj
COBISS.SI-ID: 4918042