Elektrokemijski eksperimenti so nedvoumo pokazali, da sta BTAH in ATA bistveno boljša inhibitorja korozije bakra v kloridnem mediju kot BTAOH. Pri tem je zanimivo, da sta si BTAH in BTAOH med seboj zelo podobna po elektronskih lastnostih, ki jih ponavadi povezujejo s sposobnostjo inhibicije korozije. Pokazali smo, da le te v splošnem niso zadostne za razlago, ampak je potrebno čim bolj rigorozno opisati interakcije med členi korozijskega sistema. Na podlagi takega opisa smo uspeli razložiti osnovne faktorje, ki določajo inhibicijske karakteristike v zgoraj omenjenm primeru.
COBISS.SI-ID: 24105255
Izvedli smo natančno rekonstrukcijo sestavljenega Augerjevega spektra Cu L3M4,5M4,5 za Cu-vzorec potopljen v inhibirano (10 mM BTAH) in neinhibirano 3 % raztopino NaCl. Plastovita površinska struktura za inhibirano raztopino se najbolje opiše s sestavo Cu/Cu2O/Cu(I)BTA, za neinhibirano raztopino pa s sestavo Cu/Cu2O. Ugotovili smo, da prisotnost inhibitorja zmanjša debelino oksidne plasti na bakru, saj je v inhibirani raztopini nastala približno 1,3 nm debela oksidna plast pod Cu(I)BTA-kompleksom, medtem ko je v neinhibirani raztopini plast oksida debela približno 2,2 nm.
COBISS.SI-ID: 23873831