Z metodo rentgenske fotoelektronske spektroskopije (XPS) smo analizirali površine Cu na vzorcu, ki je bil eno uro potopljen v tri različne 3-odstotne raztopine NaCl bodisi brez inhibitorja ali z inhibitorjem pri 10 mM koncentraciji BTAH ali BTAOH. Iz XPS analize sklepamo, da se v primeru BTAH na površini tvori kompleks Cu(I)BTA, medtem ko inhibitor BTAOH ne tvori analognega kompleksa. S Tougaardovo metodo analize debelin plasti inhibitorjev smo pokazali, da se po enourni izpostavavljenosti tvori trikrat debelejša plast BTAH (1,5 ±0,3 nm) v primerjavi z BTAOH.
COBISS.SI-ID: 23168295
Preučevali smo tvorbo zaščitnega sloja banzotriazola na površinah bakra, baker-cinkove zlitine in cinka. Na podlagi potenciodinamskih meritev, elektrokemijske impedančne spektroskopije, in XPS spektroskopije smo ugotovili, da ima benzotriazol vpliv na raztaplanje kovine. Študija je pokazala, da benzotriazol ni uporaben samo kot inhibitor bakra, ampak je dober inhibitor tudi za medenino in cink. Zaščitni sloj je sestavljen iz kovinskih oksidov in Cu(I)BTA kompleksov v primeru bakra in medenine. V primeru cinka zaščitni sloj sestavljajo oksid ZnO in kompleks Zn(II)BTA.
COBISS.SI-ID: 22554407