Predloženi izum se nanaša na vertikalno usmerjene ogljikove nanostrukturne materiale in na metode za depozicijo vertikalno usmerjenih ogljikovih nanostrukturnih materialov (CNW) z uporabo plinov v neravnovesnem stanju kot je plinska plazma. Razkrita je metoda za hitro nanašanje enakomernih plasti nanosov CNW na velikih površinah substratov s postopkom, ki vsebuje ablacijo materiala iz ogljika z reaktivnimi plinskimi delci, tvorbo oksidiranih plinskih molekul, ki vsebujejo ogljik, ionizacijo omenjenih molekul in interakcijo omenjenih molekul, nevtralnih ali pozitivno nabitih, z substratom. Pripravljeni CNW-ji so uporabni v različnih aplikacijah, kot so gorivne celice, Li-ionske baterije, fotovoltaične naprave in senzorji specifičnih plinskih molekul.
F.32 Mednarodni patent
COBISS.SI-ID: 32999719Na tem eminentnem svetovnem kongresu plazemske fizike smo imeli vabljeno predavanje, kjer smo poročali o možni uporabi plinske plazme v številnih industrijskih aplikacijah. Predstavili smo tudi možnost sinteze CNW na industrijski ravni.
B.04 Vabljeno predavanje
COBISS.SI-ID: 32650791