Projekti / Programi
Preiskave materialov in procesov v vakuumski optoelektroniki
Koda |
Veda |
Področje |
Podpodročje |
2.09.04 |
Tehnika |
Elektronske komponente in tehnologije |
Optoelektronika |
Koda |
Veda |
Področje |
T210 |
Tehnološke vede |
Strojništvo, hidravlika, vakuumska tehnologija, vibracije in akustično inženirstvo |
T150 |
Tehnološke vede |
Tehnologija materialov |
rekombinacijski koeficient vodika na nerjavnem jeklu, ekstremno visoki vakuum, stabilni izolativni vakuum, sol-gel postopek izdelave luminiscentnih snovi
Raziskovalci (4)
št. |
Evidenčna št. |
Ime in priimek |
Razisk. področje |
Vloga |
Obdobje |
Štev. publikacijŠtev. publikacij |
1. |
03066 |
dr. Vincenc Nemanič |
Elektronske komponente in tehnologije |
Vodja |
1997 - 1999 |
0 |
2. |
09105 |
Borut Praček |
Elektronske komponente in tehnologije |
Raziskovalec |
1998 - 1999 |
0 |
3. |
10497 |
mag. Sonja Spruk |
Elektronske komponente in tehnologije |
Raziskovalec |
1998 - 1999 |
0 |
4. |
03366 |
Marko Žumer |
Elektronske komponente in tehnologije |
Raziskovalec |
1998 - 1999 |
0 |
Povzetek
A) Za vzdrževanje stabilnega vakuuma v majhnih zaprtih posodah so odločilnega pomena: tesnost, stanje površin in razplinjenost materiala. Območje netesnosti, ki jo danes že lahko zaznamo s helijevimi merilniki, je zadovoljivo merilo ali je posoda tesna ali ne. Še manjša puščanja od merljivih so težko dokazljiva: posredni pojavi pa kažejo, da tudi težko ločljiva od ostalih prispevkov, npr. permeacije. Po prenehanju črpanja se stabilno ravnovesje lahko vzpostavlja še dolgo časa (več let) in lahko leži pri dokaj visokem tlaku. Plini, predvsem vodik, ki so na začetku črpanja raztopljeni v trdni snovi, se sproščajo v posodo z difuzijo. Adsorbirani plini z večjo vezavno energijo pa se sproščajo z dinamiko, ki jo opiše primerna izoterma. Za opis razmer pri časovno odvisnih prispevkih je bilo v literaturi predloženih več modelov, ki bolj ali manj natančno zajamejo vpliv sten oz. površin. večina njih predpostavlja pogoje pri črpanju, manj pa pri vzpostavljanju ravnovesja v daljšem obdobju po prenehanju črpanja. V posodah s tankimi kovinskimi stenami je po teoriji pričakovati nižje razplinjevanje kot v posodah z debelimi stenami. To pomeni, da bi take posode za visoki vakuum (VV) in ultra visoki vakuum (UVV) lahko procesirali krajši čas, doseženi vakuum pa bi bil stabilnejši. Potrditev zgornje predpostavke v literaturi ni zaslediti, četudi ima lahko zanimivo praktično vrednost na področju ekstremno nizkega vakuuma v znanstvenih instrumentih kot tudi v učinkovitih termično izolacijskih strukturah.
B) S sol-gel metodo potapljanja smo nanesli prozorne, homogene tanke plasti kositrovega dioksida, dopiranega z evropijem ali terbijem, ki so postale kristalinične po 8 urnem segrevanju pri 500 °C. S pomočjo strukturne analize z metodo EXAFS smo ugotovili, da je evropij v sicer amorfni rešetki silicijevega dioksida obdan s sedmimi atomi kisika na razdalji 0,23 nm.